薄膜晶体管与先进显示重点实验室
Thin Film Transistor and Advanced Display Lab

张鹏同学在2014年AM-FPD学术会议上做口头报告

时间:2014-08-19

    2014年7月2日至7月4日,第21届国际有源矩阵平板显示器与器件会议(2014 ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES)在日本京都Ryukoku University Avanti Kyoto Hall召开。实验室硕士生张鹏应邀参加了本次会议并作口头报告。AM-FPD会议是由The Japan Society of Applied Physics,The Electrochemical Society(Electronics and Photonics Division、Japan Section)和IEEE Electron Devices Society共同主办,是以“有源矩阵平板显示器和器件最新研究及发展”为讨论主题的学术盛会。该会议自1994年举办以来,对Flat Panel Displays(FPDs)和Thin Film Transistors (TFTs)等相关领域的系统、工艺、材料等方面的科研和生产产生了很大的影响。

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    本届大会邀请了Prof. Paul Heremans (imec, Belgium) 和 Mr. Hiroaki Yamaoka (Mitsubishi Chemical, Japan)做主题演讲,并进行了三个学术专题讨论和一个特别专题讨论,具体包括Advanced TFT Technologies for Flexible Electronics、Advanced PV Technologies、Novel Printing and Solution Technologies和Future Display Technologies,内容涉及thin-film materials,TFTs and other thin-film devices, photovoltaics, circuitries and systems, LC technology, crystallization, related physical phenomena and novel electronics systems等多个热门研究领域。本届会议共接收文章180多篇,其中90篇Oral(包含21篇Invited),90多篇Poster。参加这次会议的大都是世界各地高校的研究人员和学生,以日本、韩国居多。中国大陆地区主要为北京大学,此外还有不少来自台湾高校的学生。从会议论文和讨论专题可以看出,本次会议主要呈现了目前国际上最新的FPDs及TFTs制造技术。

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    随着显示技术的发展及大面积、高性能显示器的需求,如何用更低成本的技术制造出更高性能的显示器驱动器件薄膜晶体管(TFT) 已经备受关注。7月4日下午,张鹏在Oral会场为参会人员介绍了他的研究进展,报告题目是“Homojunction In2O3-TFTs Prepared by Anodization Technique”,主要内容为采用阳极氧化技术制备In2O3-TFTs这一新型工艺的流程,该制备工艺具有创新性,制备的器件也获得良好的性能,引起了很多与会者的兴趣,报告完毕后,张鹏对询问者进行了详细的解答,并和他们进行了交流讨论。通过参加这次会议,张鹏同学充分了解了国际有源矩阵显示器及器件制造技术的发展趋势,在增长了自己见识的同时也为进一步的科研工作打下了良好的基础。

    关于更多会议内容,请参考:http://www.amfpd.jp/