薄膜晶体管与先进显示重点实验室
Thin Film Transistor and Advanced Display Lab

RIE说明书

时间:2013-06-28

一、开各系统电源:

1、打开壁挂电控柜中RIE空开

2、打开循环水电源、水泵开关、压缩机开关

3、打开压缩空气球阀开关

4、打开RIE电源开关,并打开RIE机台的真空计、计算机、射频电源及匹配器

二、打开气路:

1、打开RIE机台后的所需气体的球阀(一般为SF6)

2、打开SF6钢瓶阀门

三、开腔过程:

1、点击“实用流程”,选择“开盖流程”

2、打开N2的充气球阀,充气过程只需十几秒,听到N2从腔室冒出后关闭球阀,同时观察真空计示数是否已到大气压

3、240秒后腔盖会自动打开

四、工艺流程:

1、放好样品后点击“”,选择“有”

2、点击“实用流程”,选择“开机流程”,该选项变绿

3、约15分钟后,“开机流程”结束后,该选项变黑

4、点击“工艺流程”,设置好参数后,点击“执行”

5、射频起辉时,必须关闭真空计,待起辉结束后才能打开真空计

6、工艺结束后,重复“三、开腔过程”中的步骤取样品即可

五、关机流程:

1、点击“实用流程”,选择“关机流程”

2、分子泵停转后关闭软件、计算机、射频电源、匹配器电源、RIE机台电源

3、关闭压缩空气球阀开关

4、关闭壁挂电控柜中RIE空开

5、关闭循环水压缩机开关、水泵开关、电源

6、关闭气路球阀及钢瓶

六、注意事项:

1、PECVD与RIE共用一个循环水箱,RIE关机后如PECVD还在运行,循环水不能关闭

2、起辉过程中需关闭真空计以保护规管被腐蚀,此时机台会报警,但可不必理会