新型镀膜技术与装备实验室学生在第十四届全球等离子体基注入和沉积大会获好评
时间：2017-10-25
| 2017年10月18-20日，第14届“等离子基离子注入和沉积技术国际学术会议（the 14th International Conference on Plasma Based Ion Implantation & Deposition, PBII&D 2017）在上海硅酸盐研究所召开，本次会议主席为刘宣勇研究员。该会议每两年举办一次，国际委员会主席为P. K. Chu教授。PBII&D 是“等离子体基离子注入及沉积”领域的最高水平的国际会议，自创始以来，倍受国内外等离子体表面改性领域学者和专家的重视。新型镀膜技术与装备实验室博士生肖舒、硕士生刘亮亮、邵铁垒、安小凯前去参加了大会。 |
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| 新型镀膜技术与装备实验室参会人员 |
| 新型镀膜技术与装备实验室博士生肖舒在大会上作了口头报告，介绍了本课题组在HiPIMS复合环心源方面的研究进展。针对环心源和HiPIMS都存在沉积速率低的问题，我们课题组通过特殊的引出装置，帮助等离子体解脱了环内电磁场的束缚，使得沉积速率翻了一番。同时，利用环心源和HiPIMS的共同强化离化作用，制备出了高致密均匀无颗粒的薄膜。肖博士运用改进后的HiPIMS复合环心源制备的CrN薄膜，其硬度达到35GPa,远超过文献报道值。该研究受到国内外研究者的关注，美国西南物理研究院魏荣华教授、荷兰格罗宁根大学 Yutao Pei 教授，德国Leibniz-Institut für Kristallzüchtung Darina Manova教授，哈尔滨工业大学田修波教授，宁波材料所黄峰研究员等表示将继续跟进我们的工作。 |
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| 肖舒在作报告 |
| 新型镀膜技术与装备实验室硕士生刘亮亮作了题为“Hard yet self-lubricant TiAlN/DLC multilayered coating deposited by high energetic ion-assistant deposition”的口头报告，介绍了在制备纳米多层TiAlN/DLC方面的研究结果。薄膜通过纳米复合可以组合不同薄膜的优异性能，但多层薄膜意味需要处理更多界面之间的结合问题，该研究运用偏压技术通过调节界面的形貌和膜层的应力，成功提高了界面之间的结合强度。该研究为膜层之间的结合力提出了新的解释机制，也为纳米多层薄膜的制备提供了技术指导。 |
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| 刘亮亮在做报告 |
| 此外，新型镀膜技术与装备实验室还通过海报展示了在等离子体物理场模拟、大功率阴极的设计和应用以及超厚DLC制备方面的研究工作。经过组委会严谨细致的评定，在硬质膜层领域共评选出十个最佳海报奖，新型镀膜技术与装备实验室获得了两个，分别为博士生崔岁寒 的“ Simulation study on the HiPIMS discharge of the cylindrical source by a modified grobal model” 和硕士生邵铁磊的 “ Rapid preparation of high quality alumina thin films by high power density reaction magnetron sputtering”。 |
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| 最佳海报奖得主 |
