恭喜刘凯同学在知名期刊ACS Applied Materials & Interfaces上发表论文

恭喜刘凯同学在一区国际期刊ACS Applied Materials & Interfaces上发表了题为" Supercritical Ammoniation-Enabled Interfacial Polarization for Function-Mode Transformation and Overall Optimization of Thin-Film Transistors"的期刊论文

影响因子：10.382

文章网页链接：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsami.1c09673

文章简介：

薄膜晶体管（TFT）在日益复杂的显示领域中得到了广泛的应用。尽管制造增强型TFT的工艺成熟，但缺乏实现耗尽型TFT的简便方法限制了互补型电路的实现，从而导致相对较高的功率。在这里，引入超临界流体技术来精心设计和调整界面，为TFT的功能模式转换提供了机会。通过利用超临界辅助氨化 (SCA) 处理，界面极化引起阈值电压的负移（从0.2到-9.8 V），这使得TFT在没有复杂的电容器集成电路的情况下保持正常导通状态。这种方便的技术无需额外的制造工艺来实现功能模式转换，因此可以在相同工艺下制造全模式TFT。此外，迁移率（从2.08增加到17.12 cm² V^-1 s^-1）、漏电流（从1.33 × 10^-11降低到2.22 × 10^-12 A）、滞后（从11.2降低到0.2 V）的全面优化，同时实现开/关电流比（从9.65 × 10⁴增加到7.98 × 10⁶）。基于对电学和材料表征的联合分析，建立了反应模型，以便更清楚地了解界面极化过程。总体而言，这种低温SCA处理提供了一种环境友好的策略，通过界面工程调节电子器件的功能模式并同时优化器件性能，在促进互补、低功耗电路的实施方面展现出前景。