金属氧化物半导体被认为最有希望取代硅基材料而成为TFT的沟道材料。金属氧化物TFT具有以下优点:1)迁移率高;2)器件性能均匀,适合大面积生产;3)制备温度低,适合柔性显示;4)禁带宽,可见光下透明,适合透明显示。
目前主要研究课题:
1)新的金属氧化物薄膜材料的寻找;
2)氧化物TFT的器件物理与模型;
3)氧化物TFT的稳定性;
4)氧化物TFT的制造工艺技术。