邓伟和邵阳等同学参加2014年中国平板显示会议
2014中国平板显示学术会议（CHINA FPD CONFERENCE ）于2014年10月22日～24日在中国南京维景国际大酒店召开。本次大会是由中国光学光电子行业协会液晶分会、中国物理学会液晶分会联合主办的。中国平板显示学术会议是中国最大规模和最高水平的平板显示学术大会，来自中、日、韩等国的国际权威学者和技术专家、业内知名企业的技术人员等在本次大会上进行了广泛的交流，他们剖析了平板显示产业前沿研究方向、展示了新兴技术产品，并探讨了未来显示行业的发展趋势。
南京维景国际大酒店
大会邀请了南京市政协主席南京液晶谷建设指挥部指挥长沈健、工业和信息化部电子信息司处长乔跃山、香港科技大学、电机及电子工程学系教授郭海成、东京工业大学总代表鹈饲育弘等就平板产业相关的技术、中国平板产业发展的趋势与政策、产业布局和未来的机遇和挑战等进行了演讲。
中国平板显示学术会议现场
大会共有4个技术专题的报告，包括TFT-LCD技术、OLED及其他新型显示技术、显示用材料和设备、显示应用和三维技术。大会涉及的内容涵盖了所有与平板显示相关的企业、技术、材料和设备，通过与这些企业代表的交流，使我们对整个行业有了一个更全面的了解，而不是仅仅限于单个器件的制造上，同时我们也看到国内除TFT背板以外的其他与显示相关的技术也在不断地研究和改进发展中。
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大会报告
来自京东方、中电熊猫、华星光电、天马微电子等国内知名平板显示企业的领导分别介绍了中国显示行业的技术发展、产业状况以及各自企业目前的产业布局、技术方向和发展趋势等。他们的演讲极大的增加了我们对显示领域的了解，更加明了了企业与研究所、高校在研究中存在的差异，企业在生产工艺上更看重生产成本、良率等方面，因为只有解决了成本的问题，才能被广大消费者所接受，因此，我们在以后的研究中也要更关注成本、良率等方面，而不仅仅是提高器件的性能，尽可能的向产业界靠拢，真正做到与实践相结合；同时，也是我们更加了解平板显示未来的技术发展和未来显示的趋势。在会议期间，我们很荣幸地遇到了OLED发明人邓青云博士和来自香港科技大学电机及电子工程学系的郭海成教授，张盛东老师和两位专家一起合影留念。
张老师与OLED发明人邓青云博士（中）和香港科大郭海城教授
我们实验室在本次会议共发表论文5篇，分别是《采用阳极氧化Ta2O5栅介质的低温ITO薄膜晶体管》、《栅与源/漏交叠对自对准a-IGZO TFTs性能的影响》、《双栅结构队非晶铟镓锌氧薄膜晶体管电学性能的改进》、《直流和交流溅射沟道材料对铟镓锌氧薄膜晶体管性能的影响》和《一种用于大尺寸显示的a-Si：H TFT集成栅极驱动电路》。
邵阳与参会人员交流
实验室邓伟、邵阳参加会议并分别做口头报告和张贴展示。很多人都对我们的文章很感兴趣，因此，我们向询问者做了详细的介绍，进行了广泛而深刻的交流和讨论。其中，邓伟的论文《直流和交流溅射沟道材料对铟镓锌氧薄膜晶体管性能的影响》被评为大会优秀论文。
在本次大会上IGZO作为作为下一代显示中最有潜力的材料，得到了广泛的关注，京东方、中电熊猫、华星光电、龙腾光电等企业，北京大学、东京工业大学、台湾明新科技大学、西安交大等高校都有相关方面的报道。采用IGZO金属氧化物技术后，液晶面板的像素密度将是普通液晶面板的好几倍，画面达到极致精细。同时，耗电量将大幅降低，续航能力大大增强。而且新型的IGZO材料采用了栅源极布线的细线化技术，TFT元件更小，液晶面板厚度可薄至0.3毫米以下，重量可减轻近70%，这对于液晶面板而言是质的跨越。IGZO TFT是我们实验室的重点研究方向之一，这说明我们实验室的研究是走在产业界的前端的。 持续3天的会议，能够详细的了解国内平板显示领域尤其是企业界的最新动向，让实验室与会者获益良多。对当前显示行业发展的趋势和面临的问题有了更全面的了解，通过交流，也找到了目前自己实验中存在的不足和需要改进的地方。此外，张盛东老师也参加了会议并与国内外的专家学者、企业界人士进行了广泛的交流。
