薄膜晶体管与先进显示重点实验室
Thin Film Transistor and Advanced Display Lab

我实验室在国际学术研讨会IMID 2016上作邀请报告

时间:2016-09-09

        2016年国际信息显示会议(the 16th International Meeting on Information Display, IMID 2016)于8月23日~8月26日在韩国济州岛举行(Jeju, Korea),我实验室受大会邀请作特邀报告。邵阳博士代表张盛东老师和实验室参加此次会议并作了口头报告,在会上介绍了本实验室近期关于氧化物TFT制备方面的研究成果。

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IMID 2016会场:济州国际会议中心(ICC Jeju)

         IMID由 韩国信息显示学会(the Korean Information Display Society, KIDS)和国际信息显示学会(the Society for Information Display, SID)联合主办。自2001年举办至今,已发展成为国际信息显示技术领域的重要研讨会之一,每年都吸引了众多相关领域的学者和业内人士参加,为相互之间的交流提供了良好的机会和平台。本次IMID举办地点在济州国际会议中心(ICC Jeju),该会议中心位于素有韩国“夏威夷”之称的济州岛上。本次会议包含学术研讨会和技术展览两部分,学术研讨会包括OLED System & Application,OLED Materials,High Performance LCD,LC Materials,Oxide TFT, Printed Transistors and Sensors,Stretchable/Wearable Electronics,3D Application等80个技术分会,会议内容丰富、涵盖面广。

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Samsung Display在展会上展示的透明显示(左)和LG Display展示的曲面OLED显示(右)

         此次大会上,国际知名学者非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)TFT发明人Hideo Hosono、韩国三星显示公司执行副总裁Sung-Chul Kim等为大会作了专题演讲。包括三星显示(Samsung Display)、LG 显示(LG Display)等显示公司参加了大会的技术展览。此外,学术研讨会上汇聚了众多来自三星显示、三星电子、LG显示、京东方等知名企业的相关技术人士,以及大量来自国内外著名高校如美国普林斯顿大学、英国剑桥大学、香港科技大学、香港大学、日本大阪大学、韩国首尔大学、韩国延世大学、浙江大学、上海交通大学、上海复旦大学的研究人员和资深学者。

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邵阳博士代表张盛东老师作邀请报告

         我实验室受大会邀请于Oxide TFT Flexile/ Process分会上作特邀口头报告,邵阳博士代表张盛东老师作了题为“Oxide TFTs With In Situ Anodized Passivation Layer”的报告,介绍了我们实验室近期开展的关于采用非传统技术制备氧化物薄膜晶体管(Oxide TFT)所取得的研究进展和成果,该项研究工作引起了在场听众的广泛关注。在随后的问答环节,在场听众积极提问,邵阳博士一一作答。报告结束后,邵阳博士与部分参会人员进行了进一步的交流。此次参会使我们受益良多,不仅有利于我们实验室与国内外相关领域学者间的相互交流,也帮助我们了解业界关注的热点问题,为进一步展开现有研究工作以及拓展新的研究提供了方向性指导。