新型镀膜工艺与装备实验室受邀参加中国真空学会2016学术年会
时间：2016-08-19
| 2016年8月12日到14日，中国真空学会2016学术年会在昆明云南师范大学举行。新型镀膜工艺与装备实验室受邀参加该学术会议，在薄膜科学与技术分会做了《高功率脉冲磁控溅射放电自溅射的产生和发展》的报告，并在海报展示环节介绍了实验室近期在Ti/TiC不沾锡涂层开发和HiPIMS放电模型方面取得的进展。 |
 |
| 该会议由中国真空学会主办，云南师范大学和北京大学等单位承办，会议共分为大会报告，分会报告和海报展示三个环节。大会报告由中国真空学会秘书长高鸿均院士主持，邀请了北京大学俞大鹏院士、南京大学祝世宁院士、中国科学院刘明院士等介绍了他们最新的研究进展，并邀请国家自然科学基金委何杰研究员介绍了近年来国家自然科学基金资助状况。大会报告让与会者了解了主流研究方向和资金支持力度。 |
 |
||
| 与北京大学俞大鹏院士、哈工大田修波教授等老师合影 |
| 分会报告主要包括真空科技与工程、薄膜科学与技术、电子材料与器件等分会。在薄膜科学与技术分会，实验室郑博聪博士代替吴忠振老师做了《高功率脉冲磁控溅射放电自溅射的产生和发展》的报告，报告首先总结了目前国际上对于HiPIMS自溅射的研究进展，随后介绍了本实验室通过模拟和实验相结合研究HiPIMS放电自溅射参数演化的情况，为从机理上认识HiPIMS自溅射提供了理论依据。 |
 |
||
| 郑博聪博士在分会场做报告 |
| 在海报展示环节，郑博聪博士向真空同仁介绍了HiPIMS放电模型的建立及其对阴极材料响应的研究，基于HiPIMS放电区域的粒子平衡和能量平衡并考虑局部电势峰对离子迁移的增强效应，建立了HiPIMS放电模型并研究了不同阴极材料的HiPIMS放电特性及等离子体参数变化，为HiPIMS的应用提供了参数依据。博士生肖舒同学通过海报向与会人员介绍了实验室针对波峰焊机等设备易受钎料中锡腐蚀导致表面失效、影响设备使用而开发的Ti/TiC/DLC涂层，该涂层具有显著的疏锡效果，具有很大的应用前景。实验室在海报展示环节展示了实验室在真空等离子体原理和应用方面取得的进展，受到了参会人员的广泛关注。 |
 |
 |
||
| 郑博聪博士在海报展前 | 博士生肖舒在海报展前 |
| 学术年会结束后，实验室成员与各位真空界同仁一同参观西南联大旧址，学习西南联大学生在战火中发奋学习、为祖国科技进步民族振兴而奋斗的精神。实验室成员倍受激励，都表示要向先辈学习，做好自己的科研，为祖国科技振兴增砖添瓦。 |
 |
||
| 众人在西南联大遗址前合影 |
