美国AE集团高层到访新型镀膜技术与装备实验室并提供大功率直流电源
时间：2017-12-06
|
12月5日，美国ADVANCED ENERGY（AE）集团技术副总裁Randy Heckman, 销售副总裁Greg Provenzano, 亚太地区销售总经理 Michael Yong 和亚太地区市场总监 Linda Li 到访北京大学深圳研究生院新型镀膜技术与装备实验室，实验室负责人吴忠振老师代表学院接待了Randy一行，对他们的到访表示十分的欢迎。随即，吴老师引领其参观了位于G栋一楼的新型镀膜技术与装备实验室，并介绍了实验室在等离子体物理、装备与应用方面的研究工作。
|
 |
| 吴忠振老师和AE集团一行合影 |
| 北京大学深圳研究生院新型镀膜技术与装备实验室专注于基于等离子体的镀膜技术、模拟、工艺和装备的开发，实验室在多年高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）技术研究和开发的基础上，以开发更稳定、更大束流、更高离化率的清洁等离子体为目标，进而研发相应的涂层装备、涂层材料与应用。实验室基于高功率放电，先后开发了离化率接近100%，沉积速率4倍以上于常规HiPIMS的大束流金属等离子体源和功率密度高达200W/cm2直流放电的磁控阴极，不仅离化率与HiPIMS相当，对某些材料沉积速率提高了近两个数量级。由此发现了多种新奇的物理现象，开发了多种新涂层材料，拓展了PVD技术的应用。其中，实验室制备了厚度超过50μm、硬度超过20GPa、应力只有0.5-0.8GPa的超厚类金刚石涂层（DLC），其与高速钢的结合力还超过70N，大量的应用在拓展中。AE集团 Randy Heckman一行对实验室的研究课题表现出了极大的兴趣，特别是对实验室使用到的电源需求和在HiPIMS技术领域的推动。实验室现有磁过滤型阴极弧、阳极层离子源、金属离子注入、磁控溅射、微弧氧化等各种镀膜手段和设备，广泛使用各种电源，并拥有电源研发和合作经验，在电源工作性能的优缺点上积累了丰富经验。 | ||
|
美国ADVANCED ENERGY（AE）集团在电源设计和优化上具有30多年的研发经验，其大功率开关电源具有高精密和高工艺制程的可控性，AE的直流，中频，射频等电源产品，被成功运用在半导体晶圆、光磁存储媒体、太阳能、玻璃镀膜、平板显示器、装饰镀、工具镀钛、类金钢石镀膜等领域。双方就彼此开展的工作进行了深入的了解，期望在真空镀膜和电源研制等领域进行合作共赢。AE集团决定无偿向北京大学深圳研究生院新型镀膜技术与装备实验室提供最好的电源供其研发，先期交付60kW直流磁控溅射电源两台供其大功率磁控溅射阴极测试研究，1200W自动匹配射频电源供其氧化铝工艺开发，并承诺之后根据科研需求，继续无偿提供电源设备。吴老师代表学院和实验室对其表示感谢，并承诺将在使用过程中发现的问题及对电源的改进建议和需求反馈给AE集团，帮助AE研制新型电源。AE 电源与新型镀膜技术与装备实验室在真空镀膜和电源领域进行合作互补，必将推进行业的进程。
|
 |
||
| AE集团提供的大功率直流电源
|
 |
| AE集团提供的射频电源
|
| 新型镀膜技术与装备实验室能在短时间取得丰硕成果，离不开企业的大力支持，之前向实验室无偿捐助真空设备和电源的企业还有香港Plasma Technology Limited、深圳科益实业、深圳速谱仪器、深圳创基真空、成都众鑫达科技有限公司、衡阳众源电子科技有限公司等，此外，在实验室设备购买仪器过程中给予大幅帮助的企业还有Plasma Technology Limited、德国 Melec 电源、美国Rtec等， 在此一并表示感谢。 |
 |
||
|
衡阳众源电子捐赠的直流电源
|
 |
||
| 深圳科益实业提供的中频电源
|
 |
||
| 深圳速普仪器提供的矩形磁控阴极
|
 |
||
| 众鑫达提供的大功率直流电源
|
 |
||
| PTL提供的微弧氧化电源
|
 |
||
| PTL提供的微弧氧化电源 |
