喜讯——课题组“覆铜板用超薄Cu箔制备”产业化项目落地
时间:2020-06-22
近日,我课题组团队 “覆铜板用超薄Cu箔制备关键技术”产业化项目经北京大学深圳研究生院党委会投票表决通过并完成公示,这标志该项目产业化的正式落地。该项目主要面向电路板高集成、小型化、低功耗、高频化的发展需求,开展2层超薄高端饶性覆铜板的绿色、高效、连续生产技术进行研发和产业化。
据悉,目前国际上只有美国杜邦和日本东丽公司拥有2层超薄高端饶性覆铜板的规模生产技术,严重“卡住”我国在未来5G、无人驾驶、微波通信等领域发展与布局。而且,由于前者的专利封锁,我国主要仿照后者技术路线进行高端覆铜板开发,但后者技术路线严重依赖电镀技术,对环境造成严重污染。鉴于此,我团队项目基于自主研发的超大功率连续磁控溅射技术,突破了传统磁控溅射等离子体离化率低、沉积效率低以及制备Cu箔界面结合强度弱、厚度受限等“瓶颈”问题,形成了一整套高端饶性覆铜板真空法roll-to-roll连续生长技术,有望打破技术封锁,改善环境,降低成本。 课题组“覆铜板用超薄Cu箔/膜制备关键技术”由第三方有资质的评估公司评估估值为1335万元人民币,占新成立公司40%股权,合作方深圳市新邦薄膜科技有限公司出资2000万元人民币,占新公司60%股权。双方成立产业化公司,以生产2层超薄挠性覆铜板(FCCL)电子材料及Roll-to-roll真空装备技术开发为主营业务。该项目为我实验室推出的第一个产业化项目,项目的顺利落地标志着团队在真空装备设计制造、真空镀膜及其材料合成等方面获得了行业的认可。 |
图1 北京大学深圳研究生院公示 |
图2 真空磁控溅射一步合成挠性覆铜板材料样品及应用 |
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