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真空镀膜系统仿真技术
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真空镀膜系统仿真技术是以等离子体放电模型和多物理场耦合模型为基础，通过对真空镀膜系统核心组件的放电与输运仿真，输出等离子体各参数在真空室内的空间、时间与能量分布等，为设计的镀膜系统的功能特征给出准确预测，大大减少装备设计流程和试错成本，极大地提高设计制造的效率。 |
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解析并优化放电环境，对控制等离子的状态 |
解析所有离子源的放电，得出等离子体密度随时空的演变趋势，优化工艺并指导新型设备设计。 |
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解析等离子体沉积过程，可以由其他环节输出的粒子速度能量等参数预测基片的沉积速率，膜层成分，以及膜层结构，进一步推算涂层性能。 |
解析所有阴极的刻蚀过程，可筛选合适的磁场及工艺条件，增加靶面的利用率及靶材刻蚀率。 |
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• 降低时间成本
• 仿真结果精确 .
• 参数调节方便 |
• 研究范围全面
• 仿真与工艺结合
• 理论指导实践 |
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