实验室学生参加AM-FPD学术会议

          2015有源矩阵平板显示会议（AMFPD, Active-Matrix Flat Panel Displays）于7月1日在日本京都（Kyoto）举行。我实验室硕士研究生王国英同学和宋振同学参加了此次会议，发表学术论文并介绍了TFT&SOP实验室在BCE-IGZO TFT工艺以及可靠性等方面的最新研究成果。

          AMFPD'15主要讨论了TFT技术和平板显示材料两方面的内容。本届AMFPD会议主要由学术研讨会和技术展览这两部分组成。学术研讨会的议题主要包括七个部分，分别是Keynote Address， Technology for Flexible Devices， Oxide TFTs， High Performance FPD Technologies，Novel Approach on Photovoltaics， New Materials for Thin Film Devices， Oxide and LTPS TFTs。

         AMFPD'15主要关注点是“针对柔性时代开展新阶段的薄膜器件”.这个主题是针对薄膜技术，如薄膜晶体管（TFT），光电器件，电路和系统，LC技术，薄膜材料与器件等领域所提出的。研讨会由 Ms. Lori L. Hamilton和Prof. Michio Kondo提供主题演讲。除此之外还有三个座谈会，即“TFT技术的未来应用”，“新兴的柔性太阳能电池”和“二维材料柔性电子”。

          在展览区，有各种柔性高分辨率显示器，如Ultra-Thin and High Resolution OLED Display；针对手机应用推出的几款显示器，如Innovation Vehicle SID 2015 for mobile等。

         本次会议中，我实验室发表了关于氧化物薄膜晶体管的学术论文，即“Over-etching Time on the Performance of a-IGZO TFT with Back-Channel-Etch Structure”。这篇文章介绍了干法刻蚀BCE结构的a-IGZO TFT的研究背景及存在的问题，针对所存在的问题开展实验，探究过刻蚀时间对器件性能的影响，并解释了不同过刻蚀时间导致器件性能变化的原因。

         通过参加本次会议，我们进一步了解显示领域最新技术的发展动态，对我们现在所开展的研究工作有更新的认识，并且对于我实验室今后研究工作的开展具有一定的启发及指导意义。